半導(dǎo)體行業(yè)面臨著納米級(jí)精度、復(fù)雜結(jié)構(gòu)分析、高速測(cè)量精度、多樣化材料集成、校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)維護(hù)以及先進(jìn)計(jì)量工具的經(jīng)濟(jì)高效性等方面的計(jì)量挑戰(zhàn)。
理學(xué)順序WDXRF波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀適用于測(cè)量材料的厚度和成分,尤其是輕元素。在半導(dǎo)體制造和研發(fā)領(lǐng)域,理學(xué)順序WDXRF波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀已成為不可或缺的儀器,因?yàn)閲?yán)格控制材料特性對(duì)于制造高性能半導(dǎo)體器件至關(guān)重要。

理學(xué)順序WDXRF波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀采用高級(jí)基本參數(shù)(FP)方法,可以輕松測(cè)量 B、C、N、O、Mg 和 Al 等超輕元素,并且具有高能量分辨率。使用高功率 X 射線管(4 kW),可以為大多數(shù)元素選擇多條譜線,以解決各種薄膜厚度問題,可分析亞埃至微米級(jí)的厚度。
FP 方法可以通過一個(gè)配方進(jìn)行厚度和成分分析,可最多可有效分析20個(gè)堆疊層。由于 FP 方法可以考慮其他層的吸收,因此復(fù)雜化合物或多層樣品的分析理學(xué)X射線熒光光譜儀的優(yōu)勢(shì)。
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